簡易檢索 / 檢索結果

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    垂直式爐管之流場均勻化改良的數值模擬分析
    • 機械工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 邱義萱 指導教授:
    • 爐管為半導體產業經常使用的製程設備,其產能及良率為半導體市場之技術指標,因此本研究提出8吋垂直式爐管之流場數值模擬,評估流場對於氧化製程所產生的影響,再藉由實驗結果的比對,找出流場與良率的相關性,在…
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